Surface inspection apparatus, surface inspection method, and exposure system

表面検査装置および表面検査方法および露光システム

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface inspection apparatus and a surface inspection method which can determine the quality of the shape of pattern on a substrate to be inspected, in a short period of time, regardless of the resist pattern or the pattern after etching. <P>SOLUTION: The surface inspection apparatus has a means of illuminating with a linearly polarized light a pattern, having a periodicity formed through predetermined pattern forming steps, including a step of exposing a resist layer formed on a substrate to be inspected; a means of setting the direction of the inspection substrate so that the vibrating plane of the linearly polarized light is oblique to the repetitive direction of the pattern; a means of extracting a polarized component having a vibration plane vertical to the vibration plane of the linearly polarize light from the light reflected regularly by the pattern; and a means of forming an image of the substrate surface on the basis of the extracted light. Pattern-forming conditions in the pattern forming step are identified, on the basis of the light intensity of the image on the substrate surface formed by the image forming means. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
【課題】レジストパターン、エッチング後のパターンに関わらず、被検査基板上のパターン形状の良否を短時間で判別することができる表面検査装置および表面検査方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 被検基板に形成されたレジスト層に露光する工程を含む所定のパターン形成工程を経て形成された周期性を有するパターンを直線偏光光により照明する照明手段と、 前記直線偏光の振動面と前記パターンの繰り返し方向とが斜めになるよう前記被検基板の方向を設定する設定手段と、前記パターンからの正反射光のうち、前記直線偏光の振動面に垂直な振動面を有する偏光成分を抽出する抽出手段と、前記抽出された光に基づいて前記基板表面の像を形成する像形成手段とを有し、前記像形成手段で形成された前記基板表面の像の光強度に基づいて前記パターンの形成工程におけるパターン形成条件を特定することを特徴とする表面検査装置を提供する。 【選択図】図1

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